日期:2014-11-24 13:20
产工艺突破，利用最先进的纳米压印光刻（Nanoimprint Lithography）技术，整合卷到卷（R2R）生产制造工艺，实现了低成本大批量制造生产大面积NSA的工业流程设计和设备样机开发，奠定了NSA进一步商业化推广应用的基础。
PHOTOSENS研发团队，整合纳米压印光刻技术、基底纳米功能冲压工艺和R2R生产工艺流程，为规模化制造纳米结构装置和大面积光子结晶化合物感应薄膜，开起了崭新路径。研发团队已成功开发出3种不同类型的全聚合物多参数感应装置生产制造工艺及设备样机。例如，应用于环保行业检测空气质量的甲醛（Formaldehyde）光子结晶感