高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言，高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求，具有出色的功能，足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。

无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备，同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性，是性能最好的擦拭布之一，专为高科技时代而设计。

特　色

• 掉毛量极少。
• 迅速而积极地吸收并留住水分。
• 残留离子和其他物质的溶解率较低。
• 具备高端的擦拭布性能（灰尘清除量最大，同时不会污染无尘室设备）。

用　途

• 光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
• 液晶偏转板以及其他物品的生产过程
• 光盘和磁盘的生产过程
• 录像机的生产过程
• 隐形眼镜的生产过程
• 相机装配线
• 印刷电路板的清洁工艺
• 相机镜头镀膜前的清洁工艺
• 药品生产线清洁工艺
• 电影胶片清洁工艺
• 半导体和基础电路的生产过程
• 精密涂层之前工件的清洁过程