SCAM的特点是与GaN的晶格失配度仅1.8%,不容易产生晶格位错这种结晶缺陷。虽然以前业内认为很难制作SCAM晶体,但福田结晶技术研究所采用CZ法试制成功了2英寸的高品质SCAM晶体。据该研究所介绍,通过改善晶体生长的条件和晶体生长炉的结构,提高了结晶品质。该研究所劈开试制出的SCAM晶体,利用X射线衍射法评估了其C面,结果发现其半幅值为12.9秒,结晶品质跟Si的完全结晶相当。
另外,该研究所不用切割和研磨加工工艺,而是利用SCAM晶体块通过劈开加工做成了晶圆。此举可降低晶圆的成本。利用有机金属化学气相沉积法使GaN薄膜在1040℃下垂直于SCAM晶体的劈开面生长,结果获得了镜面的低位错晶体。这也是一大成果。
福田结晶技术研究所今后将设法继续增大SCAM晶体的口径,还将对其进行商业化运作。福田结晶技术研究所将于2015年春季开始销售2英寸的SCAM基板。